400-677-0098
熱解石墨沉積爐
熱解石墨沉積爐
產(chǎn)品描述：
用于石墨、半導體器件、耐熱沖刷材料的表面熱解石墨涂層或生長。
應用范圍：
PG坩堝、PG板材、蒸鍍用坩堝、LEC坩堝、離子注入組件等。產(chǎn)品純度≥99.999%/99.9999%。

熱解石墨沉積爐技術特征

電阻爐可采用多溫區(qū)獨立控溫，溫度均勻性好；

采用智能壓力調控，壓力波動??；

全封閉沉積室，密封效果好，抗污染能力強；

多通道工氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；

多級高效尾氣處理系統(tǒng)，環(huán)境友好，易清理；

可選配外循環(huán)快冷系統(tǒng)，降溫時間短，生產(chǎn)效率高；

適于工藝氣氛：真空/CH4/C3H6/H2/N2/Ar。


熱解石墨沉積爐產(chǎn)品規(guī)格

參數(shù)\型號VCVD-0305-CVCVD-0505-CVCVD-0608-CVCVD-0612-CVCVD-0812-CVCVD-1120-CVCVD-1218-CVCVD-1520-C
工作區(qū)尺寸 φ×H（mm）300×500500×500600×800600×1200800×12001100×20001200×18001500×2000
最高溫度（℃）2000/2300
溫度均勻性（℃）±5±5±5/±7.5±7.5/±10±7.5/±10±10/±15±10/±15±15/±20
極限真空度（Pa）1-100
壓升率（Pa/h）0.67
加熱方式電阻/感應

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進行調整，不作為驗收依據(jù)，具體以技術方案和協(xié)議為準。

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